威亮光學開發(fā)出科研熱點材料，POSS多面體低聚倍半硅氧烷

發(fā)布時間:

2021-08-10

面體低聚倍半硅氧烷（POSS），又稱立方體烷，化學式為：（RSiO3/2）n，是一種分子水平上的納米級有機／無機雜化體，具有籠型結構。目前，POSS合成的方法主要包括直接水解縮合法、部分縮合一頂角帶帽法、官能團衍生法、側基轉化法、硅氫化反應和籠型倍半硅氧烷的結構重排等。

采用不同的合成方法可以制備出具有特殊官能團的POSS，其化學性質也多種多樣，并且由于其特殊的有機一無機結構，POSS可以和多種聚合物形成分子級別的POSS/聚合物雜化材料。威亮光學采用自由專利技術，巳制備出多種型號的POSS結構，終端用戶可以根據(jù)POSS所帶官能團和聚合物的結構特點，進行POSS/聚合物雜化，或者和威亮光學一起共同開發(fā)，擴展更多的POSS/聚合物的應用。常見POSS／聚合物雜化材料的制備方法包括共聚法、接枝法、化學交聯(lián)法、共混法和原子轉移自由基聚合法（ARTP）等。

威亮光學開發(fā)的POSS（Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane）材料可以改善涂層：◆耐刮性；◆提供附著力；◆高透光率；◆提供耐熱性。

POSS結構作為一種新型應用材料，結構立體、可以進行聚合物雜化等特點，正被越來越多的應用工程師青睞，威亮光學歡迎同各方應用工程師一起探討POSS的更多應用。